শুষ্ককরণ এবং গরম করার সিস্টেমকে সমগ্রের একটি গুরুত্বপূর্ণ অংশ হিসাবে বিবেচনা করা যেতে পারে, তাই প্রকৃত কাজে, এটি একটি বিপরীত গরম করার পদ্ধতিতে উপাদানগুলিকে প্রক্রিয়া করে, যার ফলে ঠান্ডা সমষ্টিকে সম্পূর্ণরূপে ডিহাইড্রেট করে এবং একই সময়ে এটি গরম করে। একটি নির্দিষ্ট তাপমাত্রায়, এইভাবে অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের স্বাভাবিক এবং ক্রমাগত অপারেশনের জন্য প্রয়োজনীয় শর্ত সরবরাহ করে।
অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের সম্পূর্ণ গরম করার প্রক্রিয়া চলাকালীন, মূল উদ্দেশ্য হল মিশ্রণের কার্যকারিতাকে ব্যবহারের প্রয়োজনীয়তার সাথে সঙ্গতিপূর্ণ করা, এবং সমাপ্ত উপাদানের ভাল পাকাকরণ কার্যক্ষমতা অর্জনে সহায়তা করা। সাধারণত, সামগ্রিক গরম করার তাপমাত্রা প্রায় 160℃-180℃ এর মধ্যে থাকে।
অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের শুকানোর এবং গরম করার সিস্টেমটি প্রধানত দুটি অংশ নিয়ে গঠিত: একটি শুকানোর ড্রাম এবং একটি জ্বলন ডিভাইস। শুকানোর ড্রাম প্রধানত একটি ডিভাইস যা ঠান্ডা এবং ভিজা সমষ্টির শুকানো এবং গরম করার কাজ সম্পন্ন করে। ঠান্ডা-ভেজা সমষ্টি একটি সীমিত সময়ের মধ্যে প্রি-হিটিং, ডিহাইড্রেশন, শুকানো এবং গরম করার তিনটি প্রয়োজনীয়তা সম্পূর্ণ করতে সক্ষম হওয়ার জন্য, ড্রামে সমষ্টিকে সমানভাবে বিতরণ করাই নয়, পর্যাপ্ত পরিমাণে সরবরাহ করাও প্রয়োজন। অপারেশন সময়, শুধুমাত্র এই ভাবে অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের স্রাব তাপমাত্রা নির্দিষ্ট প্রয়োজনীয়তা পৌঁছাতে পারে।
অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের জ্বলন যন্ত্রটি ঠান্ডা সমষ্টিকে শুকানোর এবং গরম করার জন্য একটি তাপের উত্স সরবরাহ করতে ব্যবহৃত হয়। অর্থাৎ, উপযুক্ত জ্বালানি নির্বাচনের পাশাপাশি, অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের জন্য উপযুক্ত বার্নার নির্বাচন করাও প্রয়োজন। অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের গরম করার প্রভাব নিশ্চিত করার জন্য, উপরের দুটি ডিভাইসের যুক্তিসঙ্গত নির্বাচন ছাড়াও, কিছু নিরোধক ব্যবস্থাও নেওয়া দরকার।
কারণ অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্রক্রিয়ার জন্য, শুধুমাত্র হিটিং সিস্টেমের স্বাভাবিক ক্রিয়াকলাপ নিশ্চিত করার মাধ্যমে আমরা পুরো সিস্টেমের অপারেশনের জন্য গ্যারান্টি প্রদান করতে পারি, পরবর্তী উত্পাদনের জন্য প্রয়োজনীয় ভিত্তি প্রদান করতে পারি এবং অ্যাসফল্ট মিক্সিং প্ল্যান্টের উত্পাদন প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারি।